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离子注入工艺中PH3废气处理设备Local Scrubber

离子注入工艺中PH3废气处理设备Local Scrubber

发布时间:2020-12-01
半导体工业在给人们带来财富的同时,也伴随着对人类生存环境的危害。近年来,半导体工业的环境问题受到国际社会的极大关注。在半导体制造工序中会使用多种特殊气体如PH3、SiH4等等,同时随之而来的是大量废气的产生。这些半导体制造工序中工艺废气如果未经废气处理设备(Local Scrubber)有效地减低废气排放量及排放浓度,将会给周边环境带来严重的污染,并有可能危及人们的生命安全。其中,在半导体制造工序中PH3参与扩散和离子注入工艺,是一种无色的有毒气体,极易燃,具有腐蚀性和强还原性,遇热的明火有燃烧爆炸的危险。暴露在空气中能自燃。人体如果吸入PH3,会影响人体的细胞代谢,发生内窒息,损害神经系统等。PH3废气可通过吸附式废气处理设备(Local Scrubber)进行处理,制程生产的废气在风机压力下由入气口管道进入主吸附桶,废气中需要处理的有毒气体组分在主吸附桶中被吸附剂吸附处理,吸附后的废气经变色球检验合格后从出气口排出,再送至central scrubber 做水洗中和处理后,最后排入大气,确保废气处理的安全性处理过程中没有危害。综上,PH3是一种有毒的高危险性气体,参与制程工艺中的扩散和离子注入,需经废气处理设备处理方可排放,避免对环境和周边人员的身体健康造成危害。
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