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半导体制程工艺中硅烷(SiH4)废气处理Local Scrubber

半导体制程工艺中硅烷(SiH4)废气处理Local Scrubber

发布时间:2020-11-27
半导体制程中硅烷(SiH4)是一种特种气体,在半导体工业中主要用于制作高纯多晶硅、通过CVD(化学气相沉积)工艺制作二氧化硅薄膜、氮化硅薄膜、多晶硅隔离层、多晶硅欧姆接触层和异质等。SiH4在使用后会产生的废气,如果未经废气处理设备治理就直接高浓度对外排放,对人体和环境的恶劣影响是无法估量的。硅烷作为一种提供硅组分的气体源,反应性和自燃性强烈,有非常宽的自发着火范围和极强的燃烧能量,毒性很大,如果人体吸入单硅烷就会强烈刺激呼吸器官,是一种高危险性的气体。在半导体工厂中,因工作区域一般离中心废气处理系统远,为了避免在冗长的排气过程中引发非预期的气体泄漏,局部聚积等问题,硅烷(SiH4)废气从无尘室机台端(POU)反应被排放出后,即先由真空Pump抽至废气处理设备Local Scrubber做处理,待处理过后的气体再接续至厂务端做第二道处置。吸附式废气处理设备Local Scrubber处理尾气废气的特点?1. 以吸附桶完全处理设备尾气2. 没有明火、无尘室内不产生火源3. 节省能源、没有高耗能的需求4. 不需要耗用水资源,没有废水处理问题5. 确保尾气处理的安全性处理过程中没有危害6. 妥善处理废料,不影响地球环境综上,诸如硅烷(SiH4)此类危险性废气如若未及时处理,倘若其一旦有故障进而发生泄漏的问题,很可能会导致各种危害如火灾爆炸、人员中毒、环境破坏等伤害,严重时更可能造成人员伤亡或生产中断等巨大损失。同时,随着半导体工艺分工越发细微,应根据不同工艺衍生出来的气体特性,选择搭配合适的废气处理设备Local Scrubber,才能更有效的解决废气问题。
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